سلة مشترياتك فارغة في الوقت الحالي!
حماية فائقة بتركيبة مائية خفيفة لترطيب وتهدئة البشرة ما هو واقي الشمس SKIN1004 Hyalu-Cica؟
واقي الشمس SKIN1004 Madagascar Centella Hyalu-Cica Water-Fit Sun Serum هو واقي شمس كيميائي خفيف الوزن، مصمم لحماية البشرة من الأشعة فوق البنفسجية الضارة (UVA & UVB) مع توفير ترطيب مكثف وتهدئة فورية بفضل تركيبته الغنية بمستخلص سنتيلا أسياتيكا وحمض الهيالورونيك. يتميز هذا الواقي بملمسه المائي الذي يمتص بسرعة دون ترك طبقة دهنية أو بيضاء، مما يجعله مثاليًا لجميع أنواع البشرة، بما في ذلك البشرة الحساسة.
✅ حماية عالية من أشعة الشمس: يوفر +SPF 50+ PA**+++** لحماية فعالة من الأشعة فوق البنفسجية الطويلة والمتوسطة.
✅ تركيبة خفيفة الوزن: يمتص بسرعة ويمنح البشرة ترطيبًا وانتعاشًا دون أي لزوجة أو طبقة دهنية.
✅ يحتوي على مستخلص السنتيلا الآسيوية: يساعد في تهدئة البشرة وتقليل الاحمرار والتهيج.
✅ غني بحمض الهيالورونيك: يوفر ترطيبًا عميقًا ويحافظ على نضارة البشرة طوال اليوم.
✅ مناسب لجميع أنواع البشرة: بما في ذلك البشرة الدهنية، الحساسة، والجافة.
✅ خالي من العطور والمواد الضارة: لا يسبب حساسية أو انسداد المسام، مما يجعله مثاليًا للبشرة الحساسة والمعرضة لحب الشباب.
1️⃣ ضع كمية مناسبة من واقي الشمس على الوجه والرقبة قبل التعرض للشمس بحوالي 15-20 دقيقة.
2️⃣ وزع المنتج بلطف حتى تمتصه البشرة بالكامل.
3️⃣ أعد تطبيقه كل 2-3 ساعات، خاصة بعد السباحة أو التعرق لضمان الحماية القصوى.
4️⃣ يمكن استخدامه كأساس للمكياج بفضل قوامه الخفيف الذي لا يترك طبقة دهنية.
🔹 مستخلص السنتيلا الآسيوية (Madagascar Centella): يهدئ البشرة ويعزز التئامها ويقلل الالتهابات.
🔹 حمض الهيالورونيك (Hyaluronic Acid): يرطب البشرة بعمق ويحافظ على مرونتها وإشراقها.
🔹 مركب Hyalu-Cica: مزيج من السنتيلا وحمض الهيالورونيك لترطيب مكثف وتهدئة فورية.
🔹 فلاتر واقية من الشمس عالية الفعالية: توفر حماية قصوى من أضرار أشعة الشمس.
✔️ لا يترك أثرًا أبيض – مثالي لجميع درجات البشرة.
✔️ خالي من الكحول والعطور – مناسب للبشرة الحساسة.
✔️ تركيبة خفيفة وغير دهنية – لا يسد المسام أو يسبب بثور.
✔️ يوفر ترطيبًا فوريًا وطويل الأمد – مناسب للبشرة الجافة والعادية.
.
🔹 احصل على واقي الشمس SKIN1004 Hyalu-Cica الآن وتمتع بحماية متكاملة وإشراقة طبيعية! 🛒💙
المراجعات
لا توجد مراجعات بعد.